헥사메톡시메틸멜라민(HMMM)은 하이드록시메틸화 및 메틸화가 완전히 일어난 단량체 아미노 수지입니다. 부틸화멜라민-포름알데히드와 유사하게, 가열 시 폴리에스터 수지의 하이드록실기와 가교 반응을 일으켜 연화되지 않는 고체를 형성합니다. 기본적으로 산 촉매가 없으면 HMMM은 장시간 또는 고온에서도 자가 가교 반응을 일으키지 않습니다. 그러나 강산 촉매 존재 하에서는 150°C에서 대량의 HMMM이 자가 가교 반응을 일으킵니다. 반대로, 기존의 부틸화멜라민 및 요소 수지는 강산이 없더라도 온도가 상승함에 따라 강한 자가 가교 반응을 일으킵니다.

아미노 수지의 경화 반응:

아미노 수지는 주요 필름 형성 물질 분자들을 가교시켜 네트워크 구조를 형성하는 데 사용되므로, 아미노 수지와 페인트 수지의 공축합 반응은 매우 중요합니다. 대표적인 예로는 에테르화(교환) 반응이 있습니다.페인트 수지의 하이드록실기 및 아미노 수지의 알콕시메틸기의 존재.

열과 산 촉매 조건(일반적으로 경화 조건) 하에서 가교 반응이 빠르게 일어나 도료에 존재하는 모든 하이드록실기가 연결됩니다. 실제로 고분자 네트워크 구조가 형성됨에 따라 반응물의 유동성이 감소하여 일부 하이드록실기가 미반응 상태로 남게 됩니다. 일반적으로 코팅에 이상적인 비율보다 아미노 수지가 과량으로 존재할 경우, 남은 알콕시기는 다른 반응에 참여하거나 코팅 필름 내에 미반응 상태로 남아 있을 수 있습니다. 앞서 언급했듯이 아미노 수지는 쉽게 자가 가교되고 서로 반응하여 생산 과정에서 분자량이 증가합니다. 이러한 반응은 코팅 경화 과정에서도 발생합니다. 따라서 아미노 수지의 일정 수준의 자가 가교는 부정적인 요소가 아니라, 내구성이 우수하고 치밀하게 배열된 고분자 매트릭스를 얻는 데 필수적입니다. 아미노 수지의 세 가지 작용기 모두 자가 가교 반응에 참여하며, 강산 촉매를 사용한 완전 알킬화 멜라민 수지 코팅에서는 코팅 수지와의 에테르 교환 후에 이러한 반응이 일어난다는 증거가 있습니다. 외부 촉매나 약산 촉매가 없는 경우, 이러한 자가 가교 반응은 이미노/또는 하이드록시메틸 작용기가 높은 멜라민 수지 시스템에서 훨씬 더 많이 발생합니다. 두 경우 모두, 양호한 네트워크 구조 형성을 위해서는 약간의 자가 중합 반응이 중요합니다.

아미노 수지 가교 코팅의 경화 과정에서 포름알데히드 제거 및 가수분해와 같은 다른 반응도 발생합니다. 포름알데히드 제거는 일반적인 경화 온도에서 쉽게 일어나며, 이는 아미노 수지 경화 과정에서 포름알데히드가 방출되는 거의 유일한 이유입니다. 나머지 포름알데히드는 유리 포름알데히드입니다.

아미노 수지가 가교되어 필름을 형성하고 경화될 때 일부 가수분해 반응이 일어납니다. 이 과정에서 일부 알콕시메틸기가 하이드록시메틸기로 변환됩니다. 이미노기 또는 하이드록시메틸기 함량이 높은 멜라민 수지의 가수분해는 알칼리에 의해 촉매될 수 있으며, 상온에서도 천천히 일어날 수 있습니다. 이로 인해 아미노 수지는 자가 가교되기 쉬워지고, 보관 중 코팅의 점도가 증가합니다. 이를 방지하기 위해 수성 코팅에는 알칼리 가수분해에 내성이 있는 완전 메틸화 멜라민 수지 또는 공용매를 사용할 수 있습니다. 완전 알킬화 멜라민 수지는 수성 시스템에서 알칼리 촉매 가수분해에 내성이 있습니다. 그러나 완전 알킬화 및 부분 알킬화 멜라민 수지는 수성 시스템에서 산 촉매 가수분해에 내성이 없으므로, 수성 시스템에서는 산 촉매의 작용기가 차단된 촉매를 사용해야 합니다.

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