-
عامل هسته زا
عامل هسته زا با ایجاد هسته کریستالی باعث تبلور رزین می شود و ساختار دانه کریستال را خوب می کند، بنابراین استحکام، دمای اعوجاج حرارتی، ثبات ابعاد، شفافیت و درخشندگی محصولات را بهبود می بخشد.لیست محصول: نام محصول CAS NO.کاربرد NA-11 85209-91-2 کوپلیمر ضربه ای PP NA-21 151841-65-5 کوپلیمر ضربه ای PP NA-3988 135861-56-2 Clear PP NA-3940 81541-12-PP Clear -
عامل هسته زایی NA3988
نام:1,3:2,4-Bis(3,4-dimethylobenzylideno) سوربیتول فرمول مولکولی:C24H30O6 CAS NO:135861-56-2 وزن مولکولی:414.49 شاخص عملکرد و کیفیت: آیتم ها عملکرد و شاخص های سفید در ظاهر پودری خشک کردن، ≤% 0.5 نقطه ذوب، 255 ~ 265 دانه بندی (سر) ≥ 325 کاربرد: عامل شفاف هسته زایی NA3988 با ایجاد هسته کریستالی باعث تبلور رزین می شود و ساختار کریستال را ریز و ریز می کند... -
عامل هسته زا NA11 TDS
نام: سدیم 2,2'-متیلن-بیس-(4,6-دی-ترت-بوتیل فنیل)فسفات مترادف ها:2,4,8,10-Tetrakis(1,1-دی متیل اتیل)-6-هیدروکسی-12H-دی بنزو [d,g][1,3,2]dioxaphosphocin 6-oxide sodium salt فرمول مولکولی:C29H42NaO4P وزن مولکولی:508.61 CAS شماره ثبت:85209-91-2 EINECS:286-344-4 پودر ظاهری:White ٪） نقطه ذوب:.> 400 ℃ ویژگی ها و کاربردها: NA11 نسل دوم عامل هسته برای تبلور پلیمرها به عنوان نمک فلزی ارگانو حلقوی است. -
عامل هسته زا NA21 TDS
ویژگی: عامل هسته زایی بسیار موثر برای پلی اولفین، قادر به افزایش دمای تبلور رزین ماتریس، دمای اعوجاج حرارتی، استحکام رنسی، استحکام سطح، مقاومت ضربه ای مدول خمشی، علاوه بر این، می تواند شفافیت رزین ماتریس را تا حد زیادی بهبود بخشد.شاخص عملکرد و کیفیت: ظاهر نقطه ذوب قدرت سفید (o C) ≥210 قنولاریته (μm) ≤3 فرار (105 o C-110 o C,2h) <2% محتوای توصیه شده: دانه بندی پلی الفین p... -
عامل هسته زا NA3940
نام：1,3:2,4-Bis-O-(4-methylbenzylidene)-D-sorbitol مترادف:1,3:2,4-Bis-O-(4-methylbenzylidene)sorbitol;1,3:2,4-Bis-O-(p-methylbenzylidene)-D-sorbitol.1,3:2,4-Di(4-methylbenzylidene)-D-sorbitol;1،3:2،4-دی (p-methylbenzylidene) سوربیتول.دی-پی-متیل بنزیلیدنزوربیتول؛ژل تمام ام دی;ژل All MD-CM 30G;ژل All MD-LM 30;ژل تمام MDR;Geniset MD;Irgaclear DM;Irgaclear DM-LO;میلاد 3940;NA 98;NC 6;NC 6 (عامل هسته زا)؛فرمول مولکولی TM 3: وزن مولکولی C22H26O6: 386.44 CAS Registr...